新闻中心

芯·屏·光 智控未来

You Are Currently Here! > 首页 > 行业应用案例 > 芯·屏·光 智控未来 > 半导体湿法制程RCA清洗药液浓度控制

半导体湿法制程RCA清洗药液浓度控制
文章来源:IAS
view

18

Jun
2025

1970年由Kern和Puotinen发明的RCA清洗工艺,目前被半导体产业界广泛采用,并在晶圆清洗工艺中占据主导地位。其主要对晶圆表面进行无损伤清洗以去除制造过程中的颗粒、自然氧化层、金属污染、有机物、牺牲层、抛光残留物等杂质的工序。RCA清洗工艺主要由SPM(硫酸-过氧化氢混合液)、SC1(氨水-过氧化氢溶液)、SC2(盐酸-过氧化氢溶液)三个核心清洗环节构成。

化学药液浓度计是RCA清洗工艺的关键监控装置,通过实时跟踪各类溶液的成分变化,确保各清洗阶段化学配比处于最佳工作区间。该设备能够精确感知溶液活性组分的微小偏差,及时触发补液或稀释操作,防止因浓度波动引发的清洗不彻底或基材损伤。其持续监测功能有效维持了药液在重复使用中的稳定性,减少生产中断频率。同时,自动化的浓度管理降低了人工取样检测的潜在误差,提升了工艺一致性和可重复性。浓度计的数据输出为清洗流程优化提供了科学依据,对于保障高端半导体器件的良率和性能具有重要意义。

标签:
  • 暂无上一篇
  • 暂无下一篇
返回列表
TOP