在芯片制造的湿法清洗、刻蚀等关键工艺中，化学药液浓度的精确管控直接关乎晶圆良率与生产成本。传统人工抽样与离线检测存在滞后性和人为误差，难以捕捉药液因蒸发、消耗或交叉污染产生的微小浓度波动，这类波动往往成为制约产线效率与良率的“隐形刺客”。

针对这一行业共性难题，光远芯程展出的高精度化学药液浓度计给出了在线监测的解决路径。该设备基于近红外光谱分析技术，可直接集成至晶圆清洗机、刻蚀设备的药液循环管路中，实现对关键溶液成分的7×24小时不间断、高精度实时监测。设备秒级输出浓度数据，并与产线控制系统联动，实现闭环定量补液与自动调节，将药液浓度始终稳定在不错的工艺窗口内。这一“即测即控”模式，不但降低了化学品无谓消耗与异常返工率，也为湿法制程的数字化、智能化管控提供了坚实的技术支撑。

此次荣获“创新产品奖”，既是对光远芯程在半导体过程控制领域技术突破与产品价值的高度认可，也体现了国产近红外光谱技术在半导体产线在线监测场景中的落地进展。依托母公司迅杰光远在近红外光谱分析领域的长期积淀，光远芯程将光谱技术从实验室推向半导体产线前线，攻克了高纯度、高腐蚀性的药液的材料兼容性难题。

值得一提的是，迅杰光远已成为国内率先实现近红外浓度计在半导体清洗设备上批量化应用的国产品牌，在认证严苛、导入门槛高的半导体设备市场打开了国产替代的突破口。目前，公司已为多家半导体装备企业提供专业解决方案，其中包含头部装备企业。